實(shí)驗室玻璃器皿清洗機LGW-280

產(chǎn)品說(shuō)明

　　LGW-280實(shí)驗室玻璃器皿清洗機是一款集自動(dòng)清洗、消毒、烘干功能為一體的高科技產(chǎn)品。它可以完美代替人工對各種實(shí)驗室玻璃器皿進(jìn)行深度清洗和消毒,多種程序可編程,一鍵啟動(dòng)的清洗方式大大減輕了科研人員的無(wú)效工作負荷,同時(shí)增加了批次間清洗的穩定性與一致性,尤其在環(huán)保檢測、生物制藥、食品藥品檢測等行業(yè)中頗受歡迎。

工作原理

　　以自來(lái)水及純水(或軟化水)作為工作介質(zhì),使用特定的清洗劑,在循環(huán)泵的驅動(dòng)下,清洗液通過(guò)旋轉噴射臂和噴淋管,呈噴射狀對器皿的內外進(jìn)行360°的直接沖刷,從而在機械力和化學(xué)藥劑的作用下,剝離、乳化和分解器皿上殘留的物質(zhì);此外,可對清洗液進(jìn)行自動(dòng)加熱,然后對器皿進(jìn)行熱清洗和消毒,從而達到更好的清洗效果。還可在洗滌完成后對樣品瓶進(jìn)行熱風(fēng)干燥,避免因未及時(shí)取出造成的二次污染。

可清洗器皿

　　三角瓶、載玻片、離心管、燒瓶、量筒、培養皿、試劑瓶、雞心瓶、試管、安瓿瓶、移液管、燒杯

軟件程序

·提供12個(gè)可更改的程序組,可根據樣品變化自定義清洗程序,可設定清洗、漂洗次數等參數。

·設備設有三級密碼權限管理,符合審計追蹤要求,可適用于不同層級的管理人員對參數的管理和修改。

·配備有標準程序,可覆蓋大部分清洗物的清洗需求,直接調用,方便快捷。

·配備自動(dòng)故障診斷功能,可顯示故障信息并進(jìn)行蜂鳴提醒。

·配備獨立ESL電路控制技術(shù),運行階段強行打開(kāi)艙門(mén),儀器自動(dòng)斷電保護。

·具備安全開(kāi)門(mén)溫度設置功能(new)，更安全。

·具備水加熱、水泵工作等過(guò)程監控及過(guò)溫保護功能。

材質(zhì)工藝

· 機身采用新型耐腐蝕、防指紋(new)的304不銹鋼，歷久彌新。

· 內艙艙體采用316L鏡面不銹鋼，無(wú)縫隙、圓角處理。有效避免漏水、雜質(zhì)沉淀及細菌的滋生引起的二次污染。清洗內艙為自?xún)粜团擉w，設備工作中自動(dòng)清潔，易于做清潔驗證。

· 采用可視化設計,可觀(guān)察清洗過(guò)程，艙門(mén)視窗無(wú)霧處理，烘干過(guò)程中器皿狀態(tài)觀(guān)察更清晰(new)。

· 屏幕采用10.1英寸LCD液晶電容觸摸顯示屏(new)，可以顯示各種清洗程序、運行階段、溫度以及儀器故障提示。

· 抽屜式清洗劑加藥箱設計，安全便捷，方便更換。

核心部件

· 托盤(pán)底部標配噴淋管(new)，器皿表面清洗無(wú)死角。

· 標配兩個(gè)蠕動(dòng)泵，可選配至4個(gè)，可精準控制進(jìn)入的清洗液體積，穩定可靠。

· 標配進(jìn)口液位傳感器，水量及清洗液不足時(shí)可自動(dòng)檢測與提醒。

· 標配PT100風(fēng)溫、水溫傳感器，溫度實(shí)時(shí)顯示。

· 配備高效加熱系統，可提供符合國際標準EN ISO15883-1/2規定的93℃熱消毒功能。

· 艙內設有蒸汽冷凝器，避免外排空氣導致室內空氣污染。

· 配備三層不銹鋼過(guò)濾網(wǎng)，可有效截留污物，防止循環(huán)管路堵塞，有效延長(cháng)設備使用壽命。過(guò)濾網(wǎng)可快捷拆洗。

· 雙層絕緣門(mén)有效減少熱損失和電消耗，可視化設計可實(shí)時(shí)觀(guān)察清洗過(guò)程，低噪音設計，運行時(shí)可控制在50dB以下。

· 配備HEPA高效空氣過(guò)濾器，對進(jìn)入干燥系統的空氣進(jìn)行高效過(guò)濾，效率高達99.99%，并且帶有過(guò)濾器失效報警功能，可顯示在中控屏中

其他功能

· 可連接冷水、熱水、去離子水等多種水源，雙路進(jìn)水，可通過(guò)程序設定不同的進(jìn)水模式。

· LGW-280可放置三層清洗籃架(new),LGW-360可放置四層清洗籃架(new)，清洗架上下左右通用，模塊化管理。

· 配備變頻軟啟動(dòng)功能，可調節清洗水循環(huán)泵流量，調節清洗壓力和強度，防止因瞬間啟動(dòng)導致的器皿損壞。

· 配備USB端口(new)，可實(shí)時(shí)記錄、導出清洗的過(guò)程與記錄。

· 配備打印模塊(new)，清洗完成后，自動(dòng)打印每個(gè)清洗步驟。

· 可選配純水模組，配合清洗有效去除雜質(zhì)殘留。